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Horno de alto vacío HTCC MLCC Substrato de nitruro de aluminio

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MOQ
negotiable
Precio
Horno de alto vacío HTCC MLCC Substrato de nitruro de aluminio
Caracteristicas Galería Descripción de producto Pida una cita
Caracteristicas
Especificaciones
Tamaño de la cámara: Personalizado
Calentador: Las barras de grafito
Temperatura de trabajo: 1850℃
Exactitud de control: ± 1°C
Método del control de la temperatura: PID
Tasa de calentamiento: ¥20°C/MIN
Max power: Customized
OEM: can
Resaltar:

Horno de vacío de alta temperatura HTCC

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horno de vacío de alta temperatura HTCC

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Horno de vacío de alta temperatura MLCC

Información básica
Lugar de origen: China.
Nombre de la marca: QIANJIN
Certificación: ISO9001
Model Number: VF
Pago y Envío Términos
Detalles de empaquetado: Embalaje de madera contrachapada
Tiempo de entrega: 30 días laborables
Capacidad de la fuente: 100 piezas al mes
Descripción de producto

HTCC MLCC Substrato de nitruro de aluminio de desbinding de alto horno de vacío

 

1, Descripción

Este equipo es un horno integrado de desengrase y sinterización al vacío a alta temperatura desarrollado especialmente por nuestra empresa para la industria de sustratos cerámicos de nitruro de aluminio.Tiene una estructura de cáscara de vacío refrigerada por agua de doble capa y adopta calentamiento de control de temperatura independiente de zona de temperatura múltiple de grafitoEl gas adopta una estructura de diseño de flujo horizontal de múltiples canales, que puede hacer que el efecto de desengrase y desengrase sea mejor.Es la primera opción para el proceso de sinterización para producir sustratos de nitruro de aluminio.

 

2、Especificación técnica

Tamaño de la cámara
 
Las mediciones de la longitud de la banda son las siguientes:
Las dimensiones de las barras de aluminio son:
Temperatura de diseño 2000°C
Temperatura máxima
La temperatura es de 1850 °C
Calentador Las barras de grafito
Precisión del control ± 1°C
Método de control de la temperatura Ajuste automático del PID
Potencia máxima Basado en el tamaño
Tipo de ventilación Gases inertes como el nitrógeno y el argón
Estructura de las puertas de bloqueo Estructura del candado eléctrico de las puertas
Sistema de control Pantalla táctil + sistema de control PLC totalmente automático

 

3■ Patente

Con conocimientos de ingeniería probados y más de 20 años de experiencia podemos ofrecerle la solución de horno adecuada.

Horno de alto vacío HTCC MLCC Substrato de nitruro de aluminio 0

 

4■Caso del cliente en China

 

La primera línea de producción de carbonización de película de disipación de calor de grafeno de carga rápida de teléfono móvil

Horno de alto vacío HTCC MLCC Substrato de nitruro de aluminio 1

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Horno de alto vacío HTCC MLCC Substrato de nitruro de aluminio 2

 

5、Cliente extranjero

Horno de alto vacío HTCC MLCC Substrato de nitruro de aluminio 3

Envasado y envío

Vamos a empacar bien los bienes basados en los tipos de horno y los requisitos del cliente.

Horno de alto vacío HTCC MLCC Substrato de nitruro de aluminio 4

 

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