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Forno de alto vácuo HTCC MLCC Substrato de Nitreto de Alumínio

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MOQ
negotiable
preço
Forno de alto vácuo HTCC MLCC Substrato de Nitreto de Alumínio
Características Galeria Descrição de produto Peça umas citações
Características
Especificações
Tamanho da câmara: Personalizado
Aquecedor: Rodas de grafite
Temperatura de funcionamento: 1850℃
Precisão de controle: ± 1°C
Método de controle da temperatura: PID
Taxa de aquecimento: 20°C/MIN
Max power: Customized
OEM: can
Destacar:

Forno a vácuo de alta temperatura HTCC

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Forno a vácuo de alta temperatura HTCC

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Forno a vácuo de alta temperatura MLCC

Informação básica
Lugar de origem: China
Marca: QIANJIN
Certificação: ISO9001
Model Number: VF
Condições de Pagamento e Envio
Detalhes da embalagem: Embalagem de madeira compensada
Tempo de entrega: 30 dias úteis
Habilidade da fonte: 100 pcs/mês
Descrição de produto

HTCC MLCC Forno de alto vácuo de desligação de substrato de nitritos de alumínio

 

Descrição

Este equipamento é um forno integrado de desengraxagem e sinterização a vácuo de alta temperatura especialmente desenvolvido pela nossa empresa para a indústria de substratos cerâmicos de nitruro de alumínio.Ele tem uma estrutura de casca de vácuo resfriado a água de duas camadas e adota grafite zona de temperatura múltipla aquecimento controle de temperatura independenteO gás adota uma estrutura de design de fluxo horizontal de vários canais, o que pode melhorar o efeito de desengraçamento e desengraçamento.É a primeira escolha para o processo de sinterização da produção de substratos de nitruro de alumínio.

 

2、Especificação técnica

Tamanho da câmara
 
900X500X500mm
1500X500X500mm
Temperatura de projeto 2000°C
Temperatura máxima
1850°C
Aquecedor Rodas de grafite
Precisão do controlo ± 1°C
Método de controlo da temperatura Ajuste automático do PID
Potência máxima Com base no tamanho
Tipo de ventilação Gases inertes, tais como o azoto e o argônio
Estrutura da porta da fechadura Estrutura de fechadura de porta elétrica
Sistema de controlo Ecrã táctil + sistema de controlo PLC totalmente automático

 

3■ Patente

Com conhecimentos de engenharia comprovados e mais de 20 anos de experiência, podemos fornecer-lhe a solução de forno certa.

Forno de alto vácuo HTCC MLCC Substrato de Nitreto de Alumínio 0

 

4■Caso do cliente na China

 

A primeira linha de produção de carbonização de filmes de dissipação de calor de graphene de carregamento rápido de telefone celular

Forno de alto vácuo HTCC MLCC Substrato de Nitreto de Alumínio 1

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Forno de alto vácuo HTCC MLCC Substrato de Nitreto de Alumínio 2

 

Cliente estrangeiro

Forno de alto vácuo HTCC MLCC Substrato de Nitreto de Alumínio 3

6■Embalagem e transporte

Vamos bem embalar as mercadorias com base nos tipos de fornos e requisitos do cliente.

Forno de alto vácuo HTCC MLCC Substrato de Nitreto de Alumínio 4

 

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